전처리 공정을 포함한 유리기판 슬림에칭 방법

전처리 공정을 포함한 유리기판 슬림에칭 방법

발명의 영문 명칭 : SLIM ETCHING METHOD FOR A GLASS SUBSTRATE COMPRISING THE PRE-TREATMENT PROCESS

등록번호 제10-1489241호

등록일 2015년 01월 28일

(51) 국제특허분류(Int. Cl.)
C03C 15/00 (2006.01) C03C 21/00 (2006.01)
(21) 출원번호 10-2013-0117246
(22) 출원일자 2013년10월01일
심사청구일자 2013년10월01일
(56) 선행기술조사문헌
KR100860294 B1
KR1020110015368 A

발명의 내용 요약

본 발명은 서로 이격된 복수개의 유리기판을 향하여 65wt% 내지 75wt% 의 황산 및 0.75wt% 내지 1.5wt%의 불산을
포함하는 전처리 용액을 하향 스프레이 분사하는 전처리 공정; 및 상기 전처리 공정을 거친 유리기판을 향하여 1 내지 20wt%의 불산 및 이불화암모늄 중 적어도 하나 이상을 포함하는 에칭액을 하향 스프레이 분사하는 에칭 공정;을 포함하는 유리기판 슬림에칭 방법을 제공한다.
본 발명에 따른 유리기판 슬림에칭 방법에 따르면, 고농도 황산 및 저농도 불산의 혼합액을 사용한 유리표면의
디펙트 성장 억제시, 종래 디핑법으로 유리기판을 전처리함으로써 발생하였던 울퉁불퉁한 굴곡이 현저히 작아지
고 굴곡의 크기도 작아져서 유리기판의 얼룩이 희미해지는 광학특성이 우수한 슬림한 유리기판을 생산할 수 있다.

도면